技術(shù)編號：8141211
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。技術(shù)領(lǐng)域本發(fā)明涉及一種等離子體產(chǎn)生裝置，特別涉及一種無電極損耗的處理系 統(tǒng)及其等離子體產(chǎn)生裝置。背景技術(shù)等離子體技術(shù)已發(fā)展多年，利用等離子體內(nèi)的高能粒子(電子及離子)與 活性物種對欲處理工件產(chǎn)生鍍膜、蝕刻與表面 文質(zhì)等效應，其特性可應用于光電及半導體產(chǎn)業(yè)、3C產(chǎn)品、汽車產(chǎn)業(yè)、民生材料業(yè)及生物醫(yī)學材料表面 處理等，因其技術(shù)應用廣泛，各國乃投入相當多的研發(fā)能量進行等離子體基 礎(chǔ)研究與其應用領(lǐng)域。然而，由于光電及半導體產(chǎn)業(yè)工藝品質(zhì)的需求，等離子體技術(shù)的應用皆 處于真空環(huán)境之下，龐大的真空設(shè)備成本限制了其技術(shù)于傳統(tǒng)產(chǎn)業(yè)的應...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。