技術(shù)編號(hào)：8096425
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。專利摘要本發(fā)明提出一種等離子體源裝置，包括腔室，用于產(chǎn)生等離子體；串聯(lián)的多個(gè)電感裝置，每個(gè)電感裝置包括磁芯和纏繞磁芯的線圈，多個(gè)電感裝置均勻地圍繞腔室的外周壁設(shè)置；電介質(zhì)層，位于腔室和電感裝置之間，用于將等離子體與線圈隔離開；交流電源；匹配網(wǎng)絡(luò)，設(shè)置在所述交流電源和多個(gè)電感裝置之間，用于匹配交流電源和等離子體的放電功率。本發(fā)明的裝置，具有低功率，高密度，工作穩(wěn)定，均勻性好，可控性強(qiáng)等的優(yōu)點(diǎn)。專利說明等離子體源裝置 技術(shù)領(lǐng)域 [0001]本發(fā)明涉及等離子體技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種等離子體源裝置。 背景技術(shù) [0...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。