技術(shù)編號：7243858
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明提供一種。該方法提供具有第一區(qū)及第二區(qū)的基底。在基底上形成第一圖案化罩幕層，其在第一區(qū)中具有至少一第一開口而在第二區(qū)中具有至少一第二開口。第一開口小于第二開口。以第一圖案化罩幕層為罩幕，移除部分基底，以在第一區(qū)的基底中形成至少一第一溝渠，且同時(shí)在第二區(qū)的基底中形成至少一第二溝渠。第一溝渠的寬度及深度都小于第二溝渠。移除第一圖案化罩幕層。在第一溝渠上及第二溝渠上形成第一介電層。在位于第一溝渠的至少部分側(cè)壁上的第一介電層上及位于第二溝渠的至少部分側(cè)壁上的...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。