技術(shù)編號:7236703
提示:您尚未登錄,請點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種集成電路工藝方法以及壓焊窗口,特別是涉及一種于集成 電路制造工藝中防止水汽和可動離子進(jìn)入內(nèi)部電路的方法及相應(yīng)壓焊窗口。背景技術(shù)在實(shí)際的使用中,集成電路比較容易受到外部環(huán)境的影響,而產(chǎn)生破壞的 主要模式有水汽和可動離子對內(nèi)部電路的滲透。單獨(dú)的水汽并不能腐蝕鋁線, 但一旦有離子在水中,就可能形成具腐蝕性的溶液,特別是含磷硅玻璃的介質(zhì) 層中的磷與水汽反應(yīng)形成磷酸,而磷酸會對金屬連線造成嚴(yán)重的侵蝕。而可動 離子的滲透主要導(dǎo)致器件參數(shù)的變化,特別是對場...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。