技術(shù)編號：7233047
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明是有關(guān)于一種，且特別是有關(guān)于一種具有相同線寬及 線距的。背景技術(shù)隨著集成電路的集成度要求愈來愈高，整個(gè)半導(dǎo)體元件大小的設(shè)計(jì)也被迫往 尺寸不停縮小的方向前進(jìn)。換言之，如果要增加元件的封裝密度以及集成電路的積 集度，圖案間距(pitch),即圖案的線寬與線距的總和，亦要跟著縮小。 一般來說， 在集成電路的制程中，將圖案間距縮小大都是利用具有高解析度的微影制程來達(dá) 成，也就是說線寬及線距是由曝光顯影后的光阻層來決定。增加解析度的方法之一是使用波長較短的光源...
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