技術(shù)編號(hào):7229611
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及基板處理裝置,基板吸附方法和存儲(chǔ)介質(zhì),特別是涉及具有吸附基板的靜電卡盤的基板處理裝置。背景技術(shù) 對(duì)作為基板的晶片進(jìn)行等離子體處理,例如進(jìn)行蝕刻處理的基板處理裝置具有收容晶片的收容室,和配置在該收容室內(nèi),載置晶片的載置臺(tái)。該基板處理裝置在收容室內(nèi)產(chǎn)生等離子體,利用該等離子體對(duì)晶片進(jìn)行蝕刻處理。載置臺(tái)在其上部具有由在內(nèi)部有電極板的絕緣性部件構(gòu)成的靜電卡盤,晶片載置在靜電卡盤上。當(dāng)對(duì)晶片進(jìn)行蝕刻處理時(shí),將直流電壓加在電極板上,利用由該直流電壓產(chǎn)生的庫(kù)侖...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。