技術(shù)編號：7220576
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明是一種從微波產(chǎn)生裝置導(dǎo)入微波而產(chǎn)生表面波激發(fā)等離子體的表面波激發(fā)等離子體產(chǎn)生裝置，以及一種利用表面波激發(fā)等離子體來進(jìn)行CVD(Chemical Vapor Deposition，化學(xué)氣相沉積)或蝕刻等的表面波激發(fā)等離子體處理裝置。背景技術(shù) 表面波激發(fā)等離子體(SWPSurface Wave Plasma)通過如下方式而生成，即，將在微波導(dǎo)波管內(nèi)傳播的微波從槽孔天線導(dǎo)入到電介質(zhì)部件內(nèi)，再利用因微波電力而在電介質(zhì)部件表面上產(chǎn)生的表面波來激發(fā)等離子體，從而...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。