技術(shù)編號(hào)：7183137
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明是有關(guān)于一種清洗方法，且特別是有關(guān)于一種半導(dǎo)體清洗方法與裝置及其 控制方法。背景技術(shù)半導(dǎo)體裝置(例如是晶片)的制造利用到多種顯影技術(shù)，其中，尤其是光刻工藝，其更已成為半導(dǎo)體工藝中形成并圖案化不同材料層的標(biāo)準(zhǔn)流程。一般光刻工藝的操作程序 包括于半導(dǎo)體裝置上沉積一光刻膠層；使選定的部分光刻膠層曝光；利用顯影液將不需 要的光刻膠溶解掉以使光刻膠層顯影，其中，若是使用正型光刻膠，則照射到光的部分會(huì)溶 解在顯影液中，反之，若使用負(fù)型光刻膠，則未照射到光的部分會(huì)...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。