技術(shù)編號：7178479
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體光刻，尤其涉及一種用于檢測旋轉(zhuǎn)單元中的沖洗機(jī)構(gòu)的沖洗狀態(tài)的檢測晶片。背景技術(shù)光刻工藝是半導(dǎo)體制造中最為重要的工藝步驟之一，光刻的作用主要是將掩模版上的圖形復(fù)制到半導(dǎo)體晶片上，為下一步進(jìn)行刻蝕或離子注入工序做好準(zhǔn)備。而在光刻工藝中，涂膠過程占有非常重要的地位，因?yàn)橥磕z的質(zhì)量直接決定著光刻工藝中的對準(zhǔn)的質(zhì)量，因此如何確保涂膠的質(zhì)量就顯得非常重要。目前，涂光刻膠一般都是通過旋轉(zhuǎn)涂膠法實(shí)現(xiàn)，而旋轉(zhuǎn)涂膠法一般都需要使用涂布顯影機(jī)；關(guān)于涂布顯影機(jī)，...
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