技術(shù)編號(hào)：7169352
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及半導(dǎo)體晶圓制造，尤其涉及一種半導(dǎo)體晶圓制造裝置。背景技術(shù)現(xiàn)有的半導(dǎo)體晶圓制造裝置，其風(fēng)循環(huán)過(guò)濾系統(tǒng)通常采用整體控制，因此半導(dǎo)體晶圓制造裝置內(nèi)部往往達(dá)不到較高潔凈等級(jí)；其次，這些半導(dǎo)體晶圓制造裝置一般采用單臂機(jī)械手，由于單臂機(jī)械手只能同時(shí)處理一張晶圓，自由度較少、覆蓋區(qū)域較小，因此其傳片效率較低；另外，由于現(xiàn)有的半導(dǎo)體晶圓制造裝置中化學(xué)氣體分配系統(tǒng)布置不均衡，導(dǎo)致每個(gè)工藝腔室的流量及壓力不均一，從而影響了單位面積中產(chǎn)品的良率產(chǎn)出。發(fā)明內(nèi)容(一)要解...
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