技術(shù)編號(hào):7164956
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及集成電路制造,并且,更具體地來(lái)說(shuō),涉及一種金屬柵極結(jié)構(gòu)。背景技術(shù)隨著技術(shù)節(jié)點(diǎn)的縮小,在一些集成電路(IC)設(shè)計(jì)中利用金屬柵電極來(lái)替代多晶硅柵電極,從而在部件尺寸減小的情況下改善了器件性能。一種形成金屬電極結(jié)構(gòu)的工藝被稱作“后柵極”工藝,在該工藝中“最后”制造最終的柵極結(jié)構(gòu),這種方式減少了在形成柵極之后所必須實(shí)施的后續(xù)工藝(包括高溫處理)的數(shù)量。 然而,在互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體(CMOS)制造時(shí)仍存在實(shí)現(xiàn)這種部件和工藝的挑戰(zhàn)。隨著器件之間的柵極長(zhǎng)度和...
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