技術(shù)編號：7162399
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明是關(guān)于一種微影制程，特別涉及一種可以控制微影圖案大小的微影制程。背景技術(shù)微影制程是集成電路制程中極為重要的步驟，其對成品的良率影響極大。微影制程一般是利用光源發(fā)出光線透過具有預(yù)先設(shè)計圖案的光罩，照射到涂覆有光阻層的基板上，使光阻層發(fā)生光敏反應(yīng)，再將基板浸入顯影液中，以去除發(fā)生光敏反應(yīng)的光阻層部分，從而暴露出部分基板，形成與光罩上的圖案相應(yīng)的圖案。圖1是一種現(xiàn)有技術(shù)微影制程的示意圖。提供一長方體基板100，在該基板100上涂覆一光阻層200，該步驟是采...
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