技術編號:7158358
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及半導體器件制造,更具體地說,涉及具有局部的極薄絕緣體上硅溝道區(qū)的半導體器件。背景技術與更常規(guī)的半導體器件相比,絕緣體上半導體(S0I, Semiconductor-on-insulator)器件,比如絕緣體上硅器件(本領域中也簡寫為S0I)帶來若干優(yōu)點。例如,與執(zhí)行相似任務的其它各種器件相比,SOI器件具有較低的功耗要求。SOI 器件還具有比非SOI器件低的寄生電容。這轉化為最終得到的電路的更快開關時間。另外, 當利用SOI制備工藝來制造電路器件...
注意:該技術已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權人授權前,僅供技術研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術人員進行技術研發(fā)參考以及查看自身技術是否侵權,增加技術思路,做技術知識儲備,不適合論文引用。