技術(shù)編號：7099896
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種在半導(dǎo)體等的制造過程等中，用于處理顯影后的抗蝕基板、并除 去附著在基板表面上的殘渣或殘膜的抗蝕基板處理液、以及使用該處理液的抗蝕基板的處 理方法。背景技術(shù)在以LSI等半導(dǎo)體集成電路、FPD顯示面板的制造、彩色濾色片、感熱頭等電路基 板的制造等為主的廣泛領(lǐng)域中，一直以來使用光刻技術(shù)以形成精密元件或進(jìn)行精密加工。 在光刻法中，可以使用形成抗蝕圖案的正型或負(fù)型感光性樹脂組合物。近年來，隨著各種裝置的小型化，對于半導(dǎo)體集成電路高集成化的要求不斷提高，...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。