技術(shù)編號(hào):7074810
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及在漂移層中具備超級(jí)結(jié)構(gòu)造的功率用半導(dǎo)體裝置。 背景技術(shù)功率用半導(dǎo)體裝置一般具有在縱方向上流過電流的縱型構(gòu)造,與高耐壓化一起要求低功耗化。作為功率用半導(dǎo)體裝置,例如,有MOSFET(Metal Oxide Semiconductor FieldEffect Transistor,金屬氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管)、IGBT (Insulated Gate BipolarTransistor,絕緣柵雙極晶體管)、以及 IEGT (Injection En...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。