技術(shù)編號(hào)：7063198
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明提供了一種，包括依次執(zhí)行的下述步驟第一步驟，用于在待正面蒸金的晶圓的待正面蒸金表面上形成TiN層；第二步驟，用于將待正面蒸金的晶圓布置在晶圓承載環(huán)上，從而從下方露出待正面蒸金表面上的TiN層，并且在待正面蒸金的晶圓頂部蓋上防污染蓋；第三步驟，用于在待正面蒸金表面上的TiN層上通過(guò)蒸發(fā)工藝形成正面金屬。在本發(fā)明的中，在正面金屬層形成之前在晶圓上布置一個(gè)TiN層，并且利用接地環(huán)導(dǎo)出在蒸鍍過(guò)程中產(chǎn)生的二次電子，防止柵極氧化層中累積電子，從而能夠防止晶圓中形...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專(zhuān)利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專(zhuān)利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。