技術(shù)編號：7015485
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及顯示，公開了一種氧化物薄膜晶體管、陣列基板的制造方法及顯示器件。該氧化物薄膜晶體管的氧化物有源層圖案位于源電極、漏電極和柵電極的下方，且柵電極位于源電極和漏電極下方，使得形成源電極和漏電極的刻蝕工藝不會對氧化物有源層圖案產(chǎn)生破壞。同時，由于不需要在氧化物有源層圖案上形成刻蝕阻擋層圖案，省略了形成刻蝕阻擋層圖案的光刻工序，提高了氧化物薄膜晶體管顯示器件的量產(chǎn)性，降低了生產(chǎn)成本。專利說明氧化物薄膜晶體管、陣列基板的制造方法及顯示器件[0001]本發(fā)明...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。