技術(shù)編號(hào)：7010407
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。具有減少的離子流的預(yù)清潔腔室MM本發(fā)明的實(shí)施例一般涉及基板處理系統(tǒng)。置量可使用基板處理系統(tǒng)以在處理步驟前清潔基板，所述基板處理系統(tǒng)諸如是等離子體預(yù)清潔腔室。舉例來說，基板可在進(jìn)入等離子體預(yù)清潔腔室前例如通過如蝕刻工藝、灰化工藝或類似工藝而被處理?；蹇赡茉谶M(jìn)入等離子體預(yù)清潔腔室時(shí)帶有殘余物，可需要去除這些殘余物而不導(dǎo)致?lián)p害基板，所述殘余物諸如是蝕刻殘余物、氧化物或類似物。發(fā)明人觀察到，常規(guī)的預(yù)清潔腔室可能會(huì)在某些基板上產(chǎn)生損害，所述基板例如是低于65nm的...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。