技術(shù)編號：6993185
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及ー種發(fā)光裝置，尤其是關(guān)于ー種具有精密涂布的波長轉(zhuǎn)換層的晶圓式 (wafer-type)發(fā)光裝rf。背景技術(shù)在現(xiàn)有發(fā)光二極管的結(jié)構(gòu)中，為了轉(zhuǎn)換發(fā)射光的波長，往往會在發(fā)光二極管上涂布熒光層，故此熒光層亦稱為波長轉(zhuǎn)換層。然而，由于熒光層的涂布量難以被精密控制，所以經(jīng)常會導(dǎo)致熒光層的厚度過薄或者過厚，并因此造成發(fā)光二極管的制造良品率降低以及制造成本的浪費(fèi)。因此，為了提升制造良品率并且降低制造成本，亟需ー種精密涂布有波長轉(zhuǎn)換層的發(fā)光裝置。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明是關(guān)...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。