技術編號：6986943
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及半導體器件的制造工藝。 背景技術過去，微機電系統(tǒng)(MEMS)由于MEMS器件呈現(xiàn)的靈敏度、時空分辨率和較低功率需求，已證明在許多應用中均是有效的解決方案。一種此類應用是整合電容、光學或壓電電阻 (器)技術的平面內慣性傳感器。在使用離子植入技術的應用中，壓電電阻已形成于傳感元件的壁上。然而，植入壓電電阻會遇到增大的噪聲級、降低的靈敏度和更高的熱預算的問題。需要一種在傳感元件壁上形成壓電電阻的方法，其提供呈現(xiàn)出降低的噪聲級的壓電電阻。另外還需要形成于...
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