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3.5μm電容薄膜的制作方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):6984603

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本實(shí)用新型涉及一種電容材料,尤其為一種3. 5μπι電容薄膜。 背景技術(shù)薄膜電容器具有無極性,絕緣阻抗高,頻率特性優(yōu)異,介質(zhì)損失小等優(yōu)點(diǎn)而得到了 越來越廣泛的應(yīng)用。它是以金屬箔當(dāng)電極,將其和聚乙酯,聚丙烯,聚笨乙烯或聚碳酸酯等 制成的電容薄膜,從兩端重疊后,卷繞成圓筒狀而形成的電容器。由于電容薄膜上沒有參考 線或刻度線,進(jìn)行剪切、切割時(shí)不容精確量取,并且在卷繞過程中不易校準(zhǔn),給生產(chǎn)加工帶 來了不便。實(shí)用新型內(nèi)容為克服現(xiàn)有技術(shù)的不足,本實(shí)用新型提供了一種新型...
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