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多通道ldmos器件的制作方法技術資料下載

技術編號:6971423

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本實用新型涉及半導體功率器件,尤其涉及多通道LDMOS器件。 背景技術隨著微電子技術的高速發(fā)展,高壓BCD工藝已廣泛應用于LED驅(qū)動、開關電源等模擬電路領域。其中功率管主要采用橫向雙擴散MOS器件(Lateral Double-diffused M0SFET),在滿足其耐壓要求的前提下降低其比導通電阻(導通電阻X面積)成為高壓BCD 工藝發(fā)展的主要方向。傳統(tǒng)LDMOS采用單resurf (reduced surface field,降低表面場) 或者2倍r...
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