技術(shù)編號(hào)：6953948
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及半導(dǎo)體器件制造領(lǐng)域，具體地說，本發(fā)明涉及一種。背景技術(shù)在集成電路制造過程中，為了得到半導(dǎo)體器件，在工藝過程中不可避免地需要涂 覆光刻膠(也稱為光致抗蝕劑)以便對(duì)半導(dǎo)體材料進(jìn)行刻蝕。在光刻膠的涂覆過程中，對(duì) 光刻膠涂覆量或光刻膠涂覆體積的控制是很關(guān)鍵的，這是因?yàn)楣饪棠z的涂覆效果直接影響 到后面的刻蝕工藝所得到的半導(dǎo)體層的圖案，而這又直接影響到后續(xù)得到的半導(dǎo)體器件的 性能。在現(xiàn)有技術(shù)中，為了控制光刻膠涂覆量或光刻膠涂覆體積，一般首先確定所需要 的光刻...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。