技術(shù)編號(hào):6951708
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及在真空容器內(nèi)使用至少2種反應(yīng)氣體而在半導(dǎo)體晶圓等被處理體上 形成薄膜的半導(dǎo)體處理用的成膜裝置。在此,所謂半導(dǎo)體處理,是指為了通過(guò)在半導(dǎo)體晶 圓、LCD(Liquid Crystal Display)那樣的 FPD(Flat Panel Display)用的玻璃基板等被 處理體上以規(guī)定的圖案形成半導(dǎo)體層、絕緣層、導(dǎo)電層等而在該被處理體上制造包括半導(dǎo) 體器件、與半導(dǎo)體器件連接的布線、電極等的構(gòu)造物所實(shí)施的各種處理。背景技術(shù)隨著半導(dǎo)體器件的圖案的微細(xì)化...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。