技術(shù)編號(hào)：6938618
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，特別涉及。 背景技術(shù)在過去的四十年中，微電子芯片的研究、開發(fā)和生產(chǎn)一直沿著摩爾定律所預(yù)測(cè)來 進(jìn)行；直至2008年，英特爾等公司在內(nèi)存芯片的大規(guī)模生產(chǎn)中已經(jīng)開始使用45納米至50 納米線寬的加工技術(shù)。按照摩爾定律的預(yù)測(cè)，最晚到2012年，為了進(jìn)一步提高芯片的集成度，就需要用 到32納米甚至22納米線寬的加工技術(shù)。但是，32納米或者22納米的加工技術(shù)不僅遇到光 刻設(shè)備和工藝技術(shù)的局限性，而且單元穩(wěn)定性、信號(hào)延遲、CMOS電路可行性等都...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。