技術(shù)編號：6937372
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體裝置和集成電路的制造方法，特別涉及控制半導(dǎo)體裝置的隔絕區(qū)域階高的控制方法。 背景技術(shù)集成電路(IC)工業(yè)已歷經(jīng)快速的成長。集成電路(IC)材料和設(shè)計(jì)的技術(shù)發(fā)展已 使每一個(gè)集成電路世代的電路較前一個(gè)世代小且更復(fù)雜。然而，這些發(fā)展會(huì)增加集成電路 工藝和制造方法的復(fù)雜度，且為了實(shí)現(xiàn)這些技術(shù)發(fā)展，需要發(fā)展較簡單的集成電路工藝和 制造方法。 在集成電路發(fā)展的過程中，當(dāng)幾何尺寸(意即可利用一工藝制造的最小元件(或 線寬))縮小時(shí)，通常會(huì)增加功能密度...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。