技術(shù)編號(hào)：6928487
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及，特別是涉及具有隔離用的溝槽的。背景技術(shù)在半導(dǎo)體集成電路(以下，記為「IC」)上安裝多個(gè)雙極型晶體管、電阻或電容等的規(guī)定的元件時(shí)，應(yīng)用了對(duì)元件相互間進(jìn)行導(dǎo)電性的隔離的各種隔離結(jié)構(gòu)。最廣泛地被應(yīng)用的隔離結(jié)構(gòu)是基于PN結(jié)的隔離結(jié)構(gòu)。在該隔離結(jié)構(gòu)中，在形成元件的區(qū)域(元件形成區(qū))和與該區(qū)域的導(dǎo)電型相反的導(dǎo)電型的隔離區(qū)域之間形成PN結(jié)。而且，通過對(duì)該P(yáng)N結(jié)施加反偏置，對(duì)相鄰的元件形成區(qū)相互間進(jìn)行電隔離。在雙極型IC中，在P-型半導(dǎo)體襯底上生長N-型外延層...
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