技術(shù)編號(hào):6896130
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。 相關(guān)申請(qǐng)的交叉引用本申請(qǐng)要求于2007年4月16日提交的韓國(guó)專利申請(qǐng) 10-2007-0036817的優(yōu)先權(quán),在此通過(guò)引用將其主題并入本文。背景技術(shù)本發(fā)明涉及一種垂直爐一普遍使用的半導(dǎo)體制造裝置類型。更具 體地,本發(fā)明涉及一種具有批單元傳送功能的垂直爐,以及相關(guān)的晶 片傳送控制方法。通常,在襯底(或者"晶片")上制造半導(dǎo)體器件包括重復(fù)采用 各種工序,例如清洗、擴(kuò)散、光致抗蝕劑涂覆、曝光、顯影、蝕刻和 離子注入等。由此,良好設(shè)計(jì)的半導(dǎo)體制造裝置有利于快速實(shí)...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。