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操作具有氧化/氮化多層絕緣結構非易失存儲單元的方法技術資料下載

技術編號:6890736

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本發(fā)明公開了一種操作存儲單元的方法,特別是針對施加一電壓 于柵極,造成從柵極至電荷儲存層的空穴發(fā)生隧穿,以擦除、編程或 讀取一存儲單元的方法。背景技術非易失性存儲器(NVM)是指半導體存儲器可持續(xù)地儲存信息, 即使是在包含NVM單元的裝置的電源供應被移除時仍可持續(xù)地儲存 信息。NVM包含掩膜只讀存儲器(Mask ROM)、可編程只讀存儲器 (PROM)、可擦除可編程只讀存儲器(EPROM)、電可擦寫可編程只 讀存儲器(EEPROM)、和閃存。而非易失性存儲...
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