技術(shù)編號(hào)：6887728
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及在例如成膜處理(如等離子體CVD處理)和蝕刻處理(如 等離子體蝕刻處理)等半導(dǎo)體制造過(guò)程中所使用的基板處理裝置、用于控 制此種基仗處理裝置的顯示面板的顯示方法、使計(jì)算機(jī)執(zhí)行此種顯示的程 序及記錄了此種程序的記錄介質(zhì)。背景技術(shù)近年來(lái)的半導(dǎo)體制造裝置等基仗處理裝置的主流技術(shù)是，在半導(dǎo)體晶 片等基&的搬送系統(tǒng)的周圍配置多個(gè)執(zhí)行對(duì)Ul的處理的處理室，集中地執(zhí)行處理。如果^il樣將系統(tǒng)大型化，則會(huì)使對(duì)它的維護(hù)也變得^M^艮大，另外還需要邊考慮多個(gè)處...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。