技術(shù)編號:6873584
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種集成電路器件及其制造方法,且特別是涉及一種。背景技術(shù) 在集成電路器件的發(fā)展過程中,通過縮小器件的尺寸可達(dá)到高速操作和低耗電量的目的。然而,由于目前縮小器件尺寸的技術(shù)遭受到工藝技術(shù)瓶頸、成本昂貴等因素的限制,所以需發(fā)展其它不同于縮小器件的技術(shù),以改善器件的驅(qū)動電流。因此,有人提出利用應(yīng)力(stress)控制的方式,來克服器件縮小化的極限。現(xiàn)有一種利用應(yīng)力控制方式增加器件效能的方法是,依照器件為N型或P型來選擇在基底上形成可當(dāng)作接觸窗蝕刻中止層(...
注意:該技術(shù)已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。