技術編號：6843879
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及用于硅基光設備的傳統(tǒng)CMOS兼容制造技術，更特別的是，涉及可以在絕緣層上覆硅(SOI)結構上集成帶有硅基無源光設備和有源光電設備的傳統(tǒng)CMOS電設備的CMOS兼容制造技術的使用。背景技術 集成電路可以在絕緣層上覆硅(SOI)的基質上進行加工以達到(與大塊的硅基質相比)更高的設備速度和/或更低的功耗。SOI結構包括硅基質、被包埋的絕緣層(例如二氧化硅)以及相對薄的(例如亞微米)單晶硅表面層，其中這種表面層通常被稱作“SOI”層。在光學領域，SOI可...
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