技術(shù)編號(hào):6833080
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明一般涉及到MOS結(jié)構(gòu)(包括MIS結(jié)構(gòu))的場(chǎng)效應(yīng)晶體管,更確切地說是涉及到具有改進(jìn)了的柵絕緣膜的。背景技術(shù) 圖1剖面圖示出了常規(guī)場(chǎng)效應(yīng)晶體管的器件結(jié)構(gòu)。圖1用舉例的方法示出了一種n溝道型場(chǎng)效應(yīng)晶體管。在圖1中,參考號(hào)1表示p型硅襯底;2表示隔離區(qū);3表示p阱區(qū);4表示n溝道,更具體地說是摻有用來控制場(chǎng)效應(yīng)晶體管的閾值電壓的雜質(zhì)的區(qū)域;5表示SiO2等組成的柵絕緣膜;6表示由多晶硅膜等制成的柵電極;7表示源/漏區(qū);8表示布線;而9表示層間絕緣膜。在具有上...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。