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用bpsg回流去除cmp劃痕的方法和用其制成的集成電路芯片的制作方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):6819725

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本發(fā)明涉及器件制造方法,特別涉及去除拋光中產(chǎn)生的劃痕。器件制造中,在襯底或晶片上形成絕緣層,半導(dǎo)體層和導(dǎo)電層。對(duì)這些膜層構(gòu)圖以確定元件和空間,形成器件,如晶體管,電容器和電阻器。之后,互連這些器件以獲得要求的電功能。通常要求在形成后面的膜層之前提供一個(gè)平整的外形。不平的外形在后面的膜層構(gòu)圖時(shí)會(huì)出現(xiàn)很多問(wèn)題。這些問(wèn)題包括例如,光刻系統(tǒng)聚焦的有限深度,腐蝕反應(yīng)中產(chǎn)生的金屬殘留物,和差的金屬臺(tái)階覆蓋。要提供平整的外形就要用平面化流程。平面化流程通常包括拋光以去除...
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