技術(shù)編號(hào)：6813184
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明通常涉及光刻系統(tǒng)，并且更具體地說，涉及安裝模版和薄膜(pellicles)的方法。背景技術(shù) 在集成電路的制造中，利用光刻和光學(xué)印刷技術(shù)。在光刻法中，模版上包含的圖像被投射到在其上有光致抗蝕劑的晶片上。該模版或掩模被用于將所需圖像轉(zhuǎn)移至硅片上。該半導(dǎo)體晶片表面涂有光致抗蝕劑以使圖像蝕刻在晶片上面。薄膜與模版組合被用于保護(hù)模版表面不受損壞，并且防止碎片使圖像變形。該薄膜通常被安裝到固體框上固定至模版。用于光刻中某一波長(zhǎng)的光易于被大氣中的氧氣吸收。因此，當(dāng)...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。