技術(shù)編號:6762872
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明總的涉及到集成電路(IC)存儲器件,并且更具體地涉及到一種不對稱晶體結(jié)構(gòu)存儲電阻元件及其制造方法。背景技術(shù) 通常,使用存儲電阻器材料,如超大磁致電阻(CMR)材料,的存儲單元采用未經(jīng)圖案化的大的導(dǎo)電底部電極、未經(jīng)圖案化的CMR材料以及相對較小的頂部電極制成。這些器件在有限的一些應(yīng)用中起作用,但是因為存儲單元尺寸相對較大,所以它們不適用于高密度存儲器陣列應(yīng)用。因為CMR材料的電阻在多數(shù)情況下保持恒定,CMR材料可以說具有非易失特性。但是,當高電場感應(yīng)電...
注意:該技術(shù)已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。
該類技術(shù)無源代碼,用于學習原理,如您想要源代碼請勿下載。