技術(shù)編號：6403856
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及關(guān)于光微影制程以及罩幕，例如用于半導體裝置的制造，并且，更特別相關(guān)于在一基板上印制次微米尺寸特征的光微影制程及罩幕。背景技術(shù) 在現(xiàn)有的光學光微影制程中，具有將被印制于一基板上的各式圖案的一光微影罩幕通過一光源而加以照射，該光透過在該罩幕中的開口而加以傳輸，并典型地以一預定的縮小率，而通過將罩幕圖案映像至位于影像投影平面上的一晶片或其它基板上的投影透鏡而加以收集。所聚焦的影像系會暴露已事先覆蓋于該晶片上的一或多個光阻層，然后，該已暴露的光阻接著利用...
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