專利名稱：使用光微影罩幕降低印制于基板上影像的不一致性及影像縮短的方法及光微影罩幕的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及關(guān)于光微影制程以及罩幕，例如用于半導體裝置的制造，并且，更特別相關(guān)于在一基板上印制次微米尺寸特征的光微影制程及罩幕。
背景技術(shù)：
在現(xiàn)有的光學光微影制程中，具有將被印制于一基板上的各式圖案的一光微影罩幕通過一光源而加以照射，該光透過在該罩幕中的開口而加以傳輸，并典型地以一預定的縮小率，而通過將罩幕圖案映像至位于影像投影平面上的一晶片或其它基板上的投影透鏡而加以收集。所聚焦的影像系會暴露已事先覆蓋于該晶片上的一或多個光阻層，然后，該已暴露的光阻接著利用一顯影劑溶液而加以顯影，而該顯影劑于使用一正光阻時，移除該光阻層已暴露的部分，并于使用一負光阻時，移除該光阻未暴露的部分，結(jié)果，該罩幕圖案會原原本本地被傳輸至該光阻之上，而可被使用于接續(xù)的蝕刻或摻雜步驟。
當引入新一代的較密集及/或較快速的裝置時，則較小的尺寸特征即必須被印制于該晶片之表面，延伸光學光微影的限制。而于通常會降低對已印制特征的線寬(critical dimension)的控制的非線型行為(non-linearbehavior)區(qū)域中操作時，該光學光微影系統(tǒng)及光阻乃系為需要，再者，當特征尺寸接近或變得小于用于照射該罩幕的該光源的波長時，則光學變形會被導入于該已印制之圖案之中，而該光學變形系會造成相關(guān)于其相鄰特征的密度、尺寸及位置的該已印制特征的線寬的變化，舉例而言，毗鄰一干凈區(qū)域的密集線與空間數(shù)組(dense lines and spaces arrays)通常會受到來自該干凈區(qū)域所散射之光，已知為“閃耀(flare)”，進入該數(shù)組區(qū)域之影響的限制，其可造成該數(shù)組的線寬度(line widths)的不一致性成為與該干凈區(qū)域之距離的函數(shù)，更甚者，在該線寬度中不一致性的程度亦會取決于該數(shù)組的尺寸，作為一更進一步的例子，具有錯開(staggered)之線端部(line ends)的密集線與空間數(shù)組系通常容易具有因在該罩幕圖案中聚焦的小改變而造成之線端部縮短，而該線寬不一致性及線端部縮短則可以造成在最終裝置中增加的接觸電阻以及開放式電路(opencircuits)。
用于應付這些問題的一個已知方法，是于暴露該罩幕時調(diào)整所使用的照射條件，例如，調(diào)整空間相干性(spatial coherecy)、所照射的角度、離焦(defocusing)的程度、以及暴露時間等。然而，用于降低線縮短以及不一致性的理想照射條件系通常不是該已印制特征的分辨率的最佳條件。
另一個現(xiàn)有的方法是調(diào)整該罩幕偏差(maskbias)。在該罩幕上之特征的邊緣加以延伸，以補償在該晶片上的已印制圖案中的該線縮短或不一致性。然而，隨著裝置密度成長以及特征尺寸更進一步的縮小，在罩幕上相鄰之特征間總是沒有足夠的空間可以將邊緣足夠地延伸以補償這些變化。
再一已知的方法是增加已知為“截線”的形狀至該罩幕圖案中，以于發(fā)生線縮短或角落變圓的區(qū)域中增加或減少光，而補償該縮短或變圓。然而，此種技術(shù)具有截線非常小以及使得罩幕之檢閱與寫入非常困難的缺點，再者，每一個特征可能需要多個截線，以藉此于準備如此之罩幕時，大大地增加必須儲存于該罩幕寫入系統(tǒng)中的數(shù)據(jù)。另外，當特征尺寸減少時，截線之使用變得較沒有效果。
另一更進一步已知可替代的方法則系敘述于U.S.Patent No.6,451,490 B1，titled“Method To Overcome Image Shortening By Use OfSub-Resolution Reticle Features”to W.H.Advocate，et al.，其敘述于此做為參考而并入本文之中。為了應付密集數(shù)組圖案之影像縮短問題，小于該光微影系統(tǒng)的解析能力的特征，已知為次分辨率特征，被增加至該罩幕之中，并被加以定位而垂直于該密集數(shù)組圖案的至少一特征。該次分辨率特征系具有較該數(shù)組圖案之特征為小的寬度，并且不會被印制到該晶片之上。然而，其所顯示的次分辨率特征，不是位于該密集數(shù)組圖案之特征間的空間，就是均分該密集數(shù)組圖案的特征，因此，其并無法顯著地降低不一致性，并且也無法理想地位在最小化縣縮短的位置。
因此，存在避免上述缺點之方法而在已印制數(shù)組中降低該線縮短或不一致性的需要。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明通過將次分辨率特征并入圍繞于線與空間數(shù)組周圍的干凈區(qū)域之中而解決線與空間數(shù)組中不一致性及線縮短的問題。
根據(jù)本發(fā)明的一個觀點，不一致性及影像縮短于使用一光微影罩幕而印制于一基板上的一影像中實質(zhì)地被降低，其中該光微影罩幕系具有包括相鄰于至少一干凈區(qū)域的至少一線與空間數(shù)組的一罩幕圖案，而該影像系通過使用一光學投影系統(tǒng)照射該光微影罩幕并投射已傳輸通過該光微影罩幕之光至該基板之上而加以印制。至少一線特征系被并入該罩幕圖案的該干凈區(qū)域之內(nèi)，同時該線特征系位于接近該線與空間數(shù)組的位置，并系具有小于該光學投影系統(tǒng)之一最小分辨率的一線寬度。
根據(jù)本發(fā)明的另一個觀點，一特征系利用一光學投影系統(tǒng)而被印制于一基板上。一光微影罩幕系使用一光源而加以照射，該光微影罩幕系具有包括相鄰于一干凈區(qū)域的至少一線與空間數(shù)組的一罩幕圖案，并具有位于該干凈區(qū)域中之一線特征，該線特征系接近該線與空間數(shù)組，并系具有小于該光學投影系統(tǒng)之一最小分辨率的一線寬度。已傳輸通過該光微影罩幕的光系利用該光學投影系統(tǒng)而被投影至該基板之上。
根據(jù)本發(fā)明的再一個觀點，一種用于一光學投影系統(tǒng)之一光微影罩幕系加以形成。一罩幕圖案系加以提供，其包括相鄰于至少一干凈區(qū)域的至少一線與空間數(shù)組，而至少一線特征被并入該罩幕圖案的該干凈區(qū)域之內(nèi)，該線特征系被配置為接近該線與空間數(shù)組，并系具有小于該光學投影系統(tǒng)的一最小分辨率的一線寬度。
根據(jù)本發(fā)明的又一個觀點，一種光微影罩幕系被使用于一光學投影系統(tǒng)之中。一罩幕圖案系包括相鄰于至少一干凈區(qū)域的至少一線與空間數(shù)組，至少一線特征系被配置于該罩幕圖案之該干凈區(qū)域之內(nèi)，該線特征被配置為接近該線與空間數(shù)組，并具有小于該光學投影系統(tǒng)的一最小分辨率的一線寬度。
依照本發(fā)明上述的各個觀點，相鄰的該線與空間數(shù)組系具有錯開之端部。該線特征系被配置為與該線與空間數(shù)組之線平行，或被配置為與該線與空間數(shù)組之線垂直。該干凈區(qū)域系可相鄰于該線與空間數(shù)組的一線的一長度或可相鄰于該線與空間數(shù)組的一線的一端部，該罩幕圖案的該干凈區(qū)域系包括一不透明區(qū)域中的一開口，一部份穿透區(qū)域，或一相移區(qū)域。多個該線特征彼此平行地加以排列，并且該等線特征可被排列在至少具有一2μm寬度的區(qū)域之內(nèi)。
本發(fā)明上述之觀點、特征及優(yōu)點將以接下來對較佳實施例的敘述以及所伴隨的圖式作為參考而有更進一步地體會。


圖1是顯示在一干凈區(qū)域中，線與空間數(shù)組配置于其中之光微影罩幕圖案之部分的圖式；圖2是顯示使用圖1的該罩幕圖案所印制的部分線與空間數(shù)組的圖案；圖3是顯示圖2的該線與空間數(shù)組中該等線所測得的線寬度的曲線圖；圖4A是顯示當該罩幕理想地聚焦于基板上時，使用圖1的該罩幕圖案所印制的線與空間數(shù)組的端部的圖案；圖4B是顯示當該罩幕離焦點0.3μm而于基板上時，使用圖1的該罩幕圖案所印制的線與空間數(shù)組的端部的圖案；圖5是顯示根據(jù)本發(fā)明之部分罩幕圖案，其中次解析線特征系被包含于圍繞該線與空間數(shù)組的干凈區(qū)域之中；以及圖6是顯示當該線與空間數(shù)組被干凈區(qū)域所包圍并且當次解析線特征被包含于該干凈區(qū)域范圍內(nèi)時，該線與空間數(shù)組的該等線的寬度的曲線圖。
具體實施例方式
圖1顯示一光微影罩幕之部分，其中一線與空間數(shù)組圖案102是被一干凈區(qū)域104而圍住所有的側(cè)邊。相鄰線106、108之端部，可以是錯開的，因此，線106之端部較線108之端部更延伸進入該干凈區(qū)域。
當在該罩幕上之圖案具有適合于印制次微米尺寸特征之維度(dimension)時，印制于該基板上之特征系通常容易有因傳輸通過該干凈區(qū)域并散射進入該數(shù)組的光所造成之各式不一致性及/或線縮短的問題，舉例而言，沿著一線與空間數(shù)組之一側(cè)邊，亦即，沿著該線與空間數(shù)組的一長度，的一干凈區(qū)域，其可于該已印制數(shù)組的已印制線之維度中導入不一致性，另外，相較于較大的線與空間數(shù)組，較小的線與空間數(shù)組的該不一致性系更為顯著，一更進一步的例子是，被配置于該線與空間數(shù)組的端部的該干凈區(qū)域系會造成該已印制之特征對聚焦變化更為敏感。
圖2系顯示使用一罩幕以印制一線與空間數(shù)組的部分SEM圖(掃瞄式電子顯微圖)，其中該線與空間數(shù)組系相鄰于一干凈區(qū)域。散射自該干凈區(qū)域之閃耀(flare)或光系會于該已印制之線的線寬度中產(chǎn)生一不一致性，因此，最靠近該干凈區(qū)域的線202會出現(xiàn)較所需的寬度大上許多的情形，而相鄰的線204、206、208、210則因為遠離所散射光而出現(xiàn)較所需的寬度小的情形。相較之下，在該數(shù)組中央的線則會與剛好為或接近所需的線寬度。
圖3系為圖2中所顯示之線所測得之寬度的取線圖。該線與空間數(shù)組最外圍2μm的部分系為最受到閃耀影響的部分，因此，最靠近該干凈區(qū)域之線系顯著地較剩余的線為寬，并且，在該2μm范圍內(nèi)的該等剩余的線系較所需之線寬度為小。
圖4A以及圖4B舉例說明該線與空間數(shù)組之該已印制之線端部對因散射自位于靠近該線端部之干凈區(qū)域的光所造成之離焦的敏感度。
圖4A是為顯示利用一罩幕所印制之一線與空間數(shù)組之端部的SEM圖，其中相鄰線之端部系加以錯開。該圖案系以投射自于基板上位于其理想聚焦位置之罩幕的影像而加以印制，因此，所印制的圖案相同的會顯示出罩幕圖案中所呈現(xiàn)之錯開的線端部。相較之下，圖4B則為以偏離有關(guān)基板平面之焦點0.3μm之投影影像所印制之相同罩幕圖案的圖式，而此離焦造成該罩幕圖案之該等錯開的線端部不會出現(xiàn)于所印制之圖案上，因此，所有的線都會具有相同的長度。
而為了減輕散射自相鄰于該線與空間數(shù)組的干凈區(qū)域之光所造成的線寬度的不一致性以及線端部縮短，本發(fā)明將一或多個次分辨率輔助特征并入該干凈區(qū)域之中，舉例而言，一或多條實線系被包含于該干凈區(qū)域之中，以仿效一線與空間數(shù)組的效果。線的寬度系較光學投影系統(tǒng)之分辨率限制為窄，因此，線并不會被印制，相反地，只有所需干凈區(qū)域會出現(xiàn)在基板之上。
圖5是顯示部分的罩幕圖案，其中次分辨率輔助特征系依照本發(fā)明而被并入干凈區(qū)域之中。一線與空間數(shù)組系被一干凈區(qū)域504所包圍，而在沿著該等線之長度的部分該干凈區(qū)域中，次分辨率輔助特征506系加以形成，并且被定位為與該線與空間數(shù)組的該等線平行，較佳地是，該次分辨率特征填滿至少一2μm寬的區(qū)域，以最小化散射自該干凈區(qū)域的光。另外，在該線與空間數(shù)組的線端部，更進一步的次分辨率輔助特征加以引入，并被定位為與該線與空間數(shù)組的該等線垂直，再次，較佳地是足夠數(shù)目地次尺寸解析輔助會填滿該干凈區(qū)域的一2μm尺寸區(qū)域。
雖然圖5僅顯示被以平行或垂直于該線與空間數(shù)組之該等線的方向而定位的次分辨率輔助特征，但其它的方位系能夠減輕該不一致性及線縮短影響。
圖6是為顯示來自該干凈區(qū)域中不包括該輔助特征以及包括該次分辨率輔助特征兩區(qū)域的閃耀的影響的圖式。曲線602系顯示沒有任何次分辨率輔助特征之一干凈區(qū)域，亦即，具有100％干凈背景之干凈區(qū)域，其線寬度變化以及具該數(shù)組邊緣之距離間的關(guān)系曲線，顯著的不一致性系顯示于最靠近該數(shù)組邊緣的線中，其系由于來自該干凈區(qū)域之閃耀所造成。相較之下，曲線604系顯示包括次分辨率輔助特征之一干凈區(qū)域，其閃耀以及數(shù)組邊緣位置間的關(guān)系曲線，其中該次分辨率輔助特征系降低傳輸通過該干凈區(qū)域之光的強度，因此，僅最初光強度之60％會被進行傳輸。在此，最靠近該線與空間數(shù)組之邊緣的該等線的線寬度的變化系大大地被降低。
具有優(yōu)勢地是，本發(fā)明于相鄰于該線與空間數(shù)組的該干凈區(qū)域中提供次分辨率輔助特征，而其降低該干凈區(qū)域的透明度，并因此降低光散射或閃耀的影響，結(jié)果，在最靠近該數(shù)組邊緣的該等線的寬度中的不一致性會顯著地被降低。更甚者，不一致性的降低系使得較小的線與空間數(shù)組可以以與較大線與空間數(shù)組實質(zhì)上相同的一致性而進行印制。
一更進一步的優(yōu)點，本發(fā)明的該次分辨率特征會降低該錯開線端部之線縮短，并允許在已印制圖案中有一較大的可接受離焦程度，由此，降低該已印制圖案對光阻剝除及重制的需要。
本發(fā)明雖然在此以具體的實施例進行敘述，但可以了解的是，這些實施例僅是本發(fā)明原則及應用的舉例說明，因此，需要了解的是，為數(shù)眾多的修飾可以加諸于舉例說明的實施例，并且其它排列亦可加以設(shè)計而不脫本發(fā)明由所附權(quán)利要求所定義的精神及范圍。
權(quán)利要求
1.一種使用一光微影罩幕以實質(zhì)降低印制于一基板上的一影像中的不一致性及影像縮短的方法，其中該光微影罩幕具有包括相鄰于至少一干凈區(qū)域的至少一線與空間數(shù)組的一罩幕圖案，而該影像通過使用一光學投影系統(tǒng)照射該光微影罩幕并投射已傳輸通過該光微影罩幕的光至該基板之上而加以印制，該方法包括下列步驟將至少一線特征并入該罩幕圖案的該干凈區(qū)域之內(nèi)，其中該線特征被配置于接近該線與空間數(shù)組的位置，并具有小于該光學投影系統(tǒng)的一最小分辨率的一線寬度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中相鄰的該線與空間數(shù)組具有錯開的端部。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中該線特征被配置為平行于該線與空間數(shù)組的線。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中該線特征被配置在該線與空間數(shù)組的線的一垂直方向。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中該罩幕圖案的該干凈區(qū)域包括一不透明區(qū)域中之一開口，一部份穿透區(qū)域，以及一相移區(qū)域的至少其中之一。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中該并入步驟包括并入多個彼此平行排列的該線特征。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其中該多個線特征被排列在至少具有一2μm寬度的區(qū)域之內(nèi)。
8.一種使用一光學投影系統(tǒng)而于一基板上印制一特征的方法，該方法系包括下列步驟使用一光源照射一光微影罩幕，其中該光微影罩幕具有包括相鄰于至少一干凈區(qū)域的至少一線與空間數(shù)組的一罩幕圖案，并具有配置于該干凈區(qū)域中的一線特征，該線特征接近該線與空間數(shù)組，并具有小于該光學投影系統(tǒng)的一最小分辨率的一線寬度；以及使用該光學投影系統(tǒng)將已傳輸通過該光微影罩幕的光投影至該基板之上。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其中該線與空間數(shù)組包括具有錯開的端部的線。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其中該線特征被配置為平行于該線與空間數(shù)組的線。
11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其中該線特征被配置在該線與空間數(shù)組的線的一垂直方向。
12.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其中該罩幕圖案的該干凈區(qū)域包括一不透明區(qū)域中之一開口，一部份穿透區(qū)域，以及一相移區(qū)域的至少其中之一。
13.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其中還包括將多個各該線特征排列為彼此平行。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法，其中該多個線特征被排列在至少具有一2μm寬度的區(qū)域之內(nèi)。
15.一種形成用于一光學投影系統(tǒng)的一光微影罩幕的方法，該方法包括下列步驟提供一罩幕圖案，其包括相鄰于至少一干凈區(qū)域的至少一線與空間數(shù)組；以及將至少一線特征并入該罩幕圖案的該干凈區(qū)域之內(nèi)，而該線特征被配置為接近該線與空間數(shù)組，并具有小于該光學投影系統(tǒng)的一最小分辨率的一線寬度。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的方法，其中相鄰的該線與空間數(shù)組具有錯開的端部。
17.根據(jù)權(quán)利要求15所述的方法，其中該線特征被配置為平行于該線與空間數(shù)組的線。
18.根據(jù)權(quán)利要求15所述的方法，其中該線特征被配置在該線與空間數(shù)組的線的一垂直方向。
19.根據(jù)權(quán)利要求15所述的方法，其中該罩幕圖案的該干凈區(qū)域包括一不透明區(qū)域中之一開口，一部份穿透區(qū)域，以及一相移區(qū)域的至少其中之一。
20.根據(jù)權(quán)利要求15所述的方法，其中該并入步驟還包括并入多個彼此平行排列的該線特征。
21.根據(jù)權(quán)利要求20所述的方法，其中該多個線特征被排列在至少具有一2μm寬度的區(qū)域之內(nèi)。
22.一種用于一光學投影系統(tǒng)的光微影罩幕，該光微影罩幕包括一罩幕圖案，其系包括相鄰于至少一干凈區(qū)域的至少一線與空間數(shù)組；以及至少一線特征，其系被配置于該罩幕圖案的該干凈區(qū)域之內(nèi)，且該線特征被配置為接近該線與空間數(shù)組，并具有小于該光學投影系統(tǒng)的一最小分辨率的一線寬度。
23.根據(jù)權(quán)利要求22所述的光微影罩幕，其中相鄰的該線與空間數(shù)組系具有錯開的端部。
24.根據(jù)權(quán)利要求22所述的光微影罩幕，其中該線特征被配置為平行于該線與空間數(shù)組的線。
25.根據(jù)權(quán)利要求22所述的光微影罩幕，其中該線特征被配置在該線與空間數(shù)組的線的一垂直方向。
26.根據(jù)權(quán)利要求22所述的光微影罩幕，其中該干凈區(qū)域包括該罩幕之一不透明區(qū)域中之一開口，一部份穿透區(qū)域，以及一相移區(qū)域的至少其中之一。
27.根據(jù)權(quán)利要求22所述的光微影罩幕，其中還包括多個彼此平行排列的該線特征。
28.根據(jù)權(quán)利要求27所述的光微影罩幕，其中該多個線特征被排列在至少具有一2μm寬度的區(qū)域之內(nèi)。
29.一種使用一光微影罩幕以實質(zhì)降低印制于一基板上之一影像中的不一致性及影像縮短的方法，其中該光微影罩幕具有包括至少一線與空間數(shù)組以及至少一干凈區(qū)域的一罩幕圖案，該干凈區(qū)域相鄰于該線與空間數(shù)組的一線的一長度，而該影像通過使周一光學投影系統(tǒng)照射該光微影罩幕并投射已傳輸通過該光微影罩幕的光至該基板之上而加以印制，該方法包括下列步驟將多個線特征并入該罩幕圖案的該干凈區(qū)域之內(nèi)，而該多個線特征排列為彼此平行，并且平行于該線與空間數(shù)組的線，同時該多個線特，征被配置于接近該線與空間數(shù)組的位置，并具有小于該光學投影系統(tǒng)的一最小分辨率的一線寬度。
30.一種使用一光微影罩幕以實質(zhì)降低印制于一基板上之一影像中的不一致性及影像縮短的方法，其中該光微影罩幕具有包括至少一線與空間數(shù)組與至少一干凈區(qū)域的一罩幕圖案，該干凈區(qū)域相鄰于該線與空間數(shù)組的線的一端部，且相鄰之線與空間數(shù)組具有錯開的端部，而該影像通過使用一光學投影系統(tǒng)照射該光微影罩幕并投射已傳輸通過該光微影罩幕的光至該基板之上而加以印制，該方法包括下列步驟將多個線特征并入該罩幕圖案的該干凈區(qū)域之內(nèi)，而該多個線特征排列為彼此平行，并且被排列在該線與空間數(shù)組的線的一垂直方向，同時該多個線特征被配置于接近該線與空間數(shù)組的位置，并具有小于該光學投影系統(tǒng)的一最小分辨率的一線寬度。
31.一種利用一光學投影系統(tǒng)而于一基板上印制一特征的方法，該方法包括下列步驟使用一光源照射一光微影罩幕，其中該光微影罩幕系具有包括相鄰于一干凈區(qū)域的至少一線與空間數(shù)組的一罩幕圖案，并具有配置于該干凈區(qū)域中的多個線特征，而該干凈區(qū)域相鄰于該線與空間數(shù)組的一線的一長度，且該多個線特征排列為彼此平行，并被排列為接近且平行于該線與空間數(shù)組的線，同時每一該線與空間數(shù)組具有小于該光學投影系統(tǒng)的一最小分辨率的一線寬度；以及使用該光學投影系統(tǒng)將已傳輸通過該光微影罩幕的光投影至該基板之上。
32.一種利用一光學投影系統(tǒng)而于一基板上印制一特征的方法，該方法包括下列步驟使用一光源照射一光微影罩幕，其中該光微影罩幕具有包括相鄰于至少一干凈區(qū)域的至少一線與空間數(shù)組的一罩幕圖案，并具有配置于該干凈區(qū)域中的多個線特征，而該干凈區(qū)域相鄰于該線與空間數(shù)組的線的一端部，且相鄰之線與空間數(shù)組乃具有錯開之端部，而該多個線特征系排列為彼此平行，并系被排列為垂直于且接近該線與空間數(shù)組之線，同時每一該線與空間數(shù)組系具有小于該光學投影系統(tǒng)之一最小分辨率的一線寬度；以及使用該光學投影系統(tǒng)將已傳輸通過該光微影罩幕的光投影至該基板之上。
33.一種形成用于一光學投影系統(tǒng)之一光微影罩幕的方法，該方法系包括下列步驟提供一罩幕圖案，其包括至少一線與空間數(shù)組以及至少一干凈區(qū)域，而該干凈區(qū)域相鄰于該線與空間數(shù)組的線的一長度；以及將多個線特征并入該罩幕圖案的該干凈區(qū)域之內(nèi)，而該多個線特征系排列為彼此平行，并被排列為平行于該線與空間數(shù)組的線，同時該多個線特征被配置于接近該線與空間數(shù)組的位置，且每一該多個線特征具有小于該光學投影系統(tǒng)的一最小分辨率的一線寬度。
34.一種形成用于一光學投影系統(tǒng)之一光微影罩幕的方法，該方法包括下列步驟提供一罩幕圖案，其系包括至少一線與空間數(shù)組以及至少一干凈區(qū)域，而該干凈區(qū)域相鄰于該線及空間數(shù)組的線的一端部，且相鄰之線與空間數(shù)組具有錯開的端部；以及將多個線特征并入該罩幕圖案的該干凈區(qū)域之內(nèi)，而該多個線特征排列為彼此平行，并被排列為垂直于該線與空間數(shù)組的線，同時該多個線特征被配置于接近該線與空間數(shù)組的位置，且每一該多個線特征具有小于該光學投影系統(tǒng)的一最小分辨率的一線寬度。
35.一種用于一光學投影系統(tǒng)的光微影罩幕，該光微影罩幕包括一罩幕圖案，其包括至少一線與空間數(shù)組以及至少一干凈區(qū)域，而該干凈區(qū)域相鄰于該線與空間數(shù)組的線的一長度；以及多個線特征，其被配置于該罩幕圖案的該干凈區(qū)域之內(nèi)，而該多個線特征排列為彼此平行，并被排列為平行于該線與空間數(shù)組的線，同時該多個線特征被配置于接近該線與空間數(shù)組的位置，且每一該多個線特征具有小于該光學投影系統(tǒng)的一最小分辨率的一線寬度。
36.一種用于一光學投影系統(tǒng)的光微影罩幕，該光微影罩幕包括一罩幕圖案，其包括至少一線與空間數(shù)組以及至少一干凈區(qū)域，而該干凈區(qū)域相鄰于該線及空間數(shù)組的線的一端部，且相鄰之線與空間數(shù)組具有錯開的端部；以及多個線特征，其被配置于該罩幕圖案的該干凈區(qū)域之內(nèi)，而該多個線特征排列為彼此平行，并被排列為垂直于該線與空間數(shù)組的線，同時該多個線特征被配置于接近該線與空間數(shù)組的位置，且每一該多個線特征具有小于該光學投影系統(tǒng)的一最小分辨率的一線寬度。
全文摘要
本發(fā)明涉及用光微影罩幕降低印制于基板上影像的不一致性及影像縮短的方法及光微影罩幕。不一致性及影像縮短于使用一光微影罩幕而印制于一基板上的一影像中實質(zhì)地被降低，其中罩幕圖案系包括相鄰于一干凈區(qū)域的至少一線與空間數(shù)組。至少一線特征被并入該罩幕圖案的該干凈區(qū)域之內(nèi)，并且配置于接近該線與空間數(shù)組的位置，該線特征具有小于該光學投影系統(tǒng)的一最小分辨率的一線寬度，而該影像系通過使用該光學投影系統(tǒng)照射該光微影罩幕并投射已傳輸通過該光微影罩幕的光至該基板之上而加以印制。
文檔編號G06F17/50GK1637607SQ20041004351
公開日2005年7月13日 申請日期2004年4月29日 優(yōu)先權(quán)日2003年4月29日
發(fā)明者吳忠希, P·斯佩諾, T·A·布倫納, S·布特 申請人:因芬尼昂技術(shù)股份公司, 國際商業(yè)機器公司