技術(shù)編號：6041229
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實用新型涉及一種超高真空表面分析系統(tǒng)中高溫處理塊狀或片狀樣品的裝置，該裝置尤其適用于處理高熔點的金屬樣品和SiC等半導(dǎo)體薄片，具體地說是一種超高真空表面分析系統(tǒng)中的電子束加熱器。 背景技術(shù)在超高真空表面分析系統(tǒng)中進(jìn)行表面科學(xué)研究時，有時會用到鎢、鉭、鉬、錸等高熔點的金屬和SiC等半導(dǎo)體。要獲得潔凈的樣品表面和特定的表面結(jié)構(gòu)，必須對高熔點的金屬(或半導(dǎo)體薄片)進(jìn)行高溫處理除去樣品中 的雜質(zhì)，并結(jié)合其它的處理流程。采用電子束轟擊加熱是高溫處理常用的 一種加熱...
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