技術(shù)編號(hào)：5959348
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種復(fù)雜導(dǎo)電結(jié)構(gòu)的后成形均壓體，特別是為解決復(fù)雜結(jié)構(gòu)對(duì)局部放電有要求但又受到空間限制的高電壓結(jié)構(gòu)而設(shè)計(jì)的一種復(fù)雜導(dǎo)電結(jié)構(gòu)的后成形均壓體。背景技術(shù)在高壓試驗(yàn)設(shè)備中，需要利用均壓罩來消除或減小高電壓下場(chǎng)強(qiáng)分布不均勻造成的尖端放電或電暈。而高壓試驗(yàn)設(shè)備內(nèi)部，同樣需要有這樣一種均壓罩來消除或減小由硅堆、電容等電子元器件尖端節(jié)點(diǎn)造成的放電或電暈。這時(shí)考慮到此類電子元器件的空間排布結(jié)構(gòu)復(fù)雜，如果用有色金屬來制成現(xiàn)有結(jié)構(gòu)的均壓罩，在技術(shù)上無法滿足均壓要求。為了...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。