技術(shù)編號：5952342
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明有關(guān)一種硅片上金屬硅化物的檢測方法，尤其是有關(guān)。背景技術(shù) 在深亞微米集成電路加工中，通常都采用硅化鈦來減小硅電阻，完成晶體管之間的互連，所以硅化鈦的成長質(zhì)量對集成電路的成品率有很重要的影響。對已經(jīng)制成好的集成電路芯片進(jìn)行解析時，對硅化鈦的形成進(jìn)行快速有效的檢驗(yàn)對于集成電路制成解析是非常重要的。在集成電路解析中，一般都是通過作斷面電子掃描顯微鏡的方法來確認(rèn)硅化鈦的成長厚度和連續(xù)性。但是由于是檢查剖面，所以不可能有效地確認(rèn)大面積上的硅化鈦成長的均勻性，而...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。