技術(shù)編號：5897172
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體制造工藝，特別是間距測量裝置。 背景技術(shù)在高溫氧化反應(yīng)中，所生成的氧化膜的厚度對于器件而言非常關(guān)鍵。在實(shí)際生產(chǎn) 過程中，所生成的氧化膜的厚度受到高溫氧化爐外管、內(nèi)管、晶舟和基座的影響，尤其是內(nèi) 管的尺寸和安裝位置。此外，晶舟和內(nèi)管的相對位置發(fā)生改變，會對爐口壓力產(chǎn)生影響，使 后者也隨之產(chǎn)生變化，從而容易對生產(chǎn)過程形成隱患。因此，高溫氧化生產(chǎn)過程中，能否對 晶舟和內(nèi)管位置進(jìn)行準(zhǔn)確的調(diào)整和及時的校正，影響到產(chǎn)品合格率，甚至影響到生產(chǎn)安全。現(xiàn)...
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