技術(shù)編號：5281304
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明屬于鍍膜工藝，更具體的說本發(fā)明涉及。背景技術(shù) 低紅外反射率材料在國防以及其他工業(yè)部門有著特殊的用途，現(xiàn)有的低紅外反射率材料多為半導(dǎo)體材料，如三氧化銦、銻化銦等，它們是以重摻雜法制造而成，其中是以過剩載流子的濃度變化影響材料的反射率。這類材料一般在最小反射率波長處的紅外反射率為3～45％，反射率仍然偏高，而且材料制造工藝復(fù)雜，生產(chǎn)成本高。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的是克服現(xiàn)有技術(shù)中的不足，提供一種新型氧化鋁鍍膜的方法。該發(fā)明制造工藝簡單，生產(chǎn)成本低。并且可根據(jù)...
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