技術(shù)編號：5276814
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及從使用過的銦-錫氧化物(ITO)濺射靶或制造時(shí)產(chǎn)生的 ITO邊角料等ITO廢料(本說明書中，將這些統(tǒng)稱為"ITO廢料")中回 收有價(jià)金屬的方法。背景技術(shù)近年來，銦-錫氧化物(In203-Sn02，通常稱為ITO)濺射靶廣泛用于 液晶顯示裝置的透明導(dǎo)電性薄膜或氣體傳感器等，多數(shù)情況下使用利 用濺射法的薄膜形成方法在基板等上形成薄膜。該利用濺射法的薄膜形成方法是優(yōu)良的方法，但當(dāng)使用濺射靶形 成例如透明導(dǎo)電性薄膜時(shí)，該靶并不是均勻地消耗。該靶的一部分消...
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