技術(shù)編號:5052217
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本實用新型涉及一種排氣處理裝置,尤指一種可增加粉塵去除率的排氣處理裝置。背景技術(shù)由半導(dǎo)體制造裝置排出的半導(dǎo)體排氣(gas)對人體或環(huán)境有害,而且具有可燃 性、爆炸性,對于概金屬具有高腐蝕性。以該半導(dǎo)體排氣的代表例而言,列舉周期表III、IV、 V族元素的氫化物,例如SiH4、PH3、B2H6等,而且在制造步驟中加以使用但未反應(yīng)的SiH2Cl2、 SiHCl3、Si2H6、TE0S (四乙氧基硅炕,tetraethoxysilane)等Si化合物亦包含在該排...
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