技術(shù)編號(hào)：5021332
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。過濾模塊本申請(qǐng)要求享有2005年7月11日提交的日本專利申請(qǐng) No. 2005-201780的優(yōu)先權(quán)、以及2005年7月11日提交的美國臨時(shí)申請(qǐng) No. 60/698267的優(yōu)先權(quán)，上述每個(gè)申請(qǐng)的全部內(nèi)容在此引入作為參考。背景技術(shù)諸如在半導(dǎo)體工業(yè)中的過濾處理中，對(duì)微粒污染物的控制要求使用 具有能去除亞微米微粒的膜的超凈過濾器。公知的是，當(dāng)微粒足夠大時(shí)， 沉積在半導(dǎo)體晶片的任何微粒都會(huì)引起缺陷。在半導(dǎo)體工業(yè)中，故障缺 陷可能是只有半導(dǎo)體芯片最小特征十分之一大...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。