技術(shù)編號：4920068
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。制造氣體分離膜的方法，所述方法通過提供具有一定體積的氣體選擇性金屬離子鍍液的鍍敷容器，其中放入多孔載體。所述鍍液在所述多孔載體的表面上循環(huán)，同時保持所述鍍敷容器內(nèi)的條件從而促進無電沉積。鍍液的循環(huán)速率使得在所述氣體分離膜形成中提高所述金屬沉積到所述多孔載體的表面上。專利說明[0001]本發(fā)明涉及制造滲漏穩(wěn)定性氣體分離膜系統(tǒng)的方法和在使用一段時間之后修復(fù)(reconditioning)這樣的系統(tǒng)的方法。[0002]多年來，一直在進行開發(fā)新的和改進的氣體分離膜...
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