技術(shù)編號：4919678
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及用于在通過使用分離膜生產(chǎn)或凈化氫的過程中使氫分離膜免受顆粒污染物危害的方法。保護(hù)層（其中，通過對分離膜的表面涂覆能引起氫分子和氫原子的表面運(yùn)動的陶瓷和金屬形成金屬陶瓷）起到阻止分離膜和包含在氣體中的顆粒（污染物或催化劑）之間的接觸的作用。按照這種方式，可以提高氫分離膜的耐久性并最大限度地降低對分離膜的氫滲透性的影響。專利說明[0001]本發(fā)明涉及氫分離膜保護(hù)層及對所述氫分離膜保護(hù)層進(jìn)行涂覆的方法，更具體地，涉及通過使用金屬和陶瓷對氫分離膜的表面進(jìn)...
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