技術(shù)編號：4628580
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及在半導(dǎo)體、液晶器件制造技術(shù)中的用于涂膜制造方法中的液態(tài)膜干燥方法及液態(tài)膜干燥裝置。背景技術(shù) 迄今為止，在被處理基板上形成保護膜等含有溶劑的液態(tài)膜之后，在該液態(tài)膜的干燥工藝中，一直采用簡單的在熱板上對被處理基板加熱的烘烤法，以及在連接到真空泵的腔室內(nèi)進行減壓處理的減壓干燥法。但是，在烘烤法中，由于溶劑的揮發(fā)對溫度非常敏感，所以產(chǎn)生膜厚的起伏，存在著所形成的膜厚的均勻性不好的問題。此外，在使用真空泵的減壓干燥法中，在接近溶劑的飽和蒸汽壓時，要花費很長...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。