技術編號：439657
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。技術領域本發(fā)明涉及流體提純領域，并且涉及惰性流體、非活性流體 和活性流體的提純。另外，本發(fā)明涉及選擇性地將微量雜質從惰 性流體、非活性流體和活性流體中除掉的方法和材料。背景技術在大量的工業(yè)以及科研應用中，高純度流體流的供應是非常 重要的。在半導體工業(yè)領域內諸如化學蒸鍍等汽相處理技術的快 速擴張是與使用在半導體生產設備上的生產裝置的配置和使用相 關的，該生產裝置完全依賴于在使用半導體生產設備的現場高純 度處理流體的供應?？紤]到半導體生產中含有出現在流體流中的雜質，需要注意 的是，大量的低水準處理雜質會抑制由化學蒸鍍或...
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